从微米级检测到良率提高:四方光电粒子计数器在显现面板制作中使用

时间: 2025-05-01 18:08:39 |   作者: 全自动凝血分析仪

  在平板显现制作工艺中,颗粒污染与静电损害是影响良率的两大要害因素。跟着器材小型化与精细化开展,高密度集成电路的图形特征尺度及外表堆积层厚度已缩至微米级,这使得生产工艺对颗粒污染更为灵敏。基底外表颗粒堆积易引发点缺点乃至线缺点,直接引发产品良率下降。

  静电污染问题相同不容忽视。资料间电子能级差异导致触摸时发生电荷转移,由此发生的静电吸附(ESA)效应会强力吸附周围微粒,此类污染难以经过惯例清洁手法去除。此外,静电放电(ESD)与电磁搅扰引发的设备毛病也会对制程稳定性形成要挟。

  经过施行洁净室环境颗粒物实时监测体系,可及时辨认颗粒浓度超支危险,并采纳针对性防控办法。该计划能大大下降空气悬浮颗粒沉降形成的基底外表污染,一起缓解静电吸附(ESA)导致的次生污染,然后体系性提高产品良率。

  四方光电依托老练的光散射技能,开宣布OPC-6303/OPC-6510/OPC-6511/OPC-6503系列在线或便携型粒子计数器。该产品线具有以下中心优势:☞选用工业级大功率线%的粒子辨认精度与计数功率

  ☞支撑多通道定制化粒径分级(规范装备含0.3μm、0.5μm、1.0μm、2.5μm、5μm、10μm)

  ☞契合ISO21501-4、ISO14644-1:2015等国际规范,适用于百级至十万级洁净环境☞该系列新产品已经过RoHS认证,在TFT-LCD阵列制程、OLED蒸镀工艺等要害制程环节完成规模化使用


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